MMH-1607工業金相顯微鏡是針對半導體工業、矽片製造業、電子資訊產業、冶金工業需求而開發的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其超強性能,可廣泛應用於半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測,可觀察較厚的標本。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰,襯度更好。符合人機工程學要求的設計,使您在工作中感到舒適和放鬆。
技術規格 |
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觀 察 頭 |
30°鉸鏈式三目(50mm-75mm) |
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目 鏡 |
WF10×/25mm |
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WF10×/20mm,帶0.1mm十字分劃板 |
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物 鏡 |
平場無限遠長工作 距離明暗場物鏡:5×/0.1B.D/W.D.29.4mm、 10×/0.25B.D/W.D.16mm、 20×/0.40B.D/W.D.10.6mm 、 40×/0.60B.D/W.D.5.4mm |
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轉 換 器 |
帶DIC插孔五孔轉換器 |
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平 臺 |
雙層移動平臺 |
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平臺尺寸: 190mm×140mm |
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移動範圍:50mm×40mm |
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濾 色 片 |
插板式濾色片(綠、藍、中性) |
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調 焦 |
粗、微動同軸調焦,採用齒輪齒條傳動機構 微動格值0.002mm |
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光 源 |
帶孔徑光欄和視場光欄,鹵素燈12V/50W, AC85V-230V,亮度可調節 |
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偏光裝置 |
檢偏鏡可360度轉動,起偏鏡、 檢偏鏡均可移出光路 |
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檢測工具 |
0.01mm測量尺 |
特點說明
1. UIS無限遠光學系統。
2. 採用長壽命鹵素燈光源的,光效率更高。
3. 明暗場、偏光、微分干涉功能。
4. 採用非球面Kohler照明,增加觀察亮度。
5. WF10×(Φ25)超大視野目鏡、長工作距離明暗場金相物鏡。
6. 可插DIC微分干涉裝置的五孔轉換器。(需另外選購)
DIC:用諾曼斯基微分干涉襯比法觀察,現己被認為檢驗材料、金屬和半導體結構不可缺少的手段